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生産技術センター

東芝の研究開発・技術

コア生産技術

材料・デバイスプロセス技術

ナノメートルからメートルスケールまでの構造体・デバイス・ システムを対象に、メカニズム理解に基づいた製造プロセスや処理プロセスの生産性向上および新規技術の提案を目指して、加工技術・反応制御技術・解析技術などを研究開発しています。

[イメージ] 材料・デバイスプロセス技術

プロセス・分析・シミュレーション

エネルギー・社会インフラ・電子デバイスなどの製品製造で必要となる各種のプロセス技術および材料、分析、シミュレーションなどのコア技術の研究開発を進め、製品の早期量産化や生産性向上に寄与しています。
多機能ナノファイバー膜の形成と応用といったユニークなプロセス技術の研究開発を行っています。

[イメージ] エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成

エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成

[イメージ] 急速充電二次電池SCiB™の解析

急速充電二次電池SCiB™の解析

[イメージ] 電子デバイスの応力シミュレーション

電子デバイスの応力シミュレーション

[イメージ] 過渡容量分光法によるデバイス特性解析

過渡容量分光法によるデバイス特性解析

新規デバイス開発とプロセス応用

プラズマプロセス、薬液プロセス、流体/粉体制御技術などの培ってきた多くの知見や技術をベースとして、実験装置を設計・試作、最新の計測技術やシミュレーション技術を適用した解析・評価を行い、プロセスの性能向上や低コスト化につながる研究・開発を行っています。
また、新規デバイスのコンセプト提案から基礎設計、試作による実証を行い、新規製品の上市に向けた取り組みを行っています。

[イメージ] 生細胞可視化デバイス向け培養膜

生細胞可視化デバイス向け培養膜

[イメージ] 高速カメラによる流動層の可視化

高速カメラによる流動層の可視化

[イメージ] インクジェットヘッドからのインク吐出

インクジェットヘッドからのインク吐出

[イメージ] 粉体流のセンシング・解析

粉体流のセンシング・解析

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生産技術センター
〒235-0017 横浜市磯子区新磯子町33
TEL:045-759-1300