Japan

生産技術センター

研究・開発

薄膜プロセス技術

ナノメートルからメートルスケールまでの構造体・デバイス・システムを対象に、メカニズム理解に基づいた製造プロセスや処理プロセスの生産性向上および新規技術の提案を目指して、加工技術・反応制御技術・塗布技術などを研究開発しています。

プロセス・分析・シミュレーション

エネルギー・社会インフラ・電子デバイスなどの製品製造で必要となる薬液プロセス,プラズマプロセス,分析,シミュレーションなどのコア技術の研究開発を進め、製品の早期量産化や生産性向上に寄与しています。
また、多機能ナノファイバー膜の形成と応用といったユニークなプロセス技術の研究開発を行っています。

水中プラズマによる酸化性ラジカルの発生

水中プラズマによる酸化性ラジカルの発生

過渡容量分光法によるデバイス特性解析

過渡容量分光法によるデバイス特性解析

電子デバイスの電界シミュレーション

電子デバイスの電界シミュレーション

エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成

エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成

新規デバイス開発とプロセス応用

新規製品の製造プロセス技術開発を進め、早期上市や低コスト化に取り組んでいます。半導体プロセス技術開発で培った知見などをベースとして、急速充電二次電池(SCiB™)、パワーデバイス、水素製造に応用する電解技術などのプロセス技術を開発しています。
また、インクジェットなどの省材料塗布や次世代水素センサなど、新規デバイスおよびプロセス技術の開発も行っています。

急速充電二次電池SCiB™

急速充電二次電池SCiB™

アルカリ水電解による水素製造

アルカリ水電解による水素製造

インクジェット塗布

インクジェット塗布

生産技術センター
〒235-0017 横浜市磯子区新磯子町33
TEL:045-759-1300

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