Japan

生産技術センター

研究・開発

薄膜プロセス技術

微細化が進む電子デバイス、エネルギー・環境などの社会インフラを中心に、新技術開発や生産性向上を目指し、原子・分子レベルの現象解析から新しいナノオーダの加工技術、表面・反応制御技術、塗布技術を研究開発しています。

プロセス・分析・シミュレーション

微細化、高機能化が進む電子デバイスを作る上で必要なドライエッチングプロセス技術・洗浄プロセス技術・塗布技術・分析技術・TCAD/CAEシミュレーション技術など製造プロセスのコア技術の研究開発を進め、製品の早期量産化や生産性向上に寄与しています。また近未来に向けて、多機能ナノファイバー膜の形成と応用などの研究も行っています。

微細加工向けTCAD形状/応力シミュレーション

微細加工向けTCAD形状/応力シミュレーション

SSRMによるSiデバイスのキャリア濃度分析

SSRMによるSiデバイスのキャリア濃度分析

環境にやさしい半導体ウェットプロセス

環境にやさしい半導体ウェットプロセス

エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成

エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成

新規デバイス開発とプロセス応用

エネルギーや水、光関連の新規技術のプロセス開発を進め、早期上市や低コスト化に取組んでいます。特に、半導体プロセス技術をベースに、急速充電二次電池(SCiB™)の製造プロセス技術、機能水や水素の製造に応用する電解技術、パワーデバイスの生産技術などを開発しています。また、新規材料を用いた次世代水素センサなど新規デバイスおよびプロセス技術の開発も行っています。

SCiB™外観

SCiB™外観

次世代水素吸蔵式水素センサ

次世代水素吸蔵式水素センサ

100Nm3/hアルカリ水電解試作機

100Nm3/hアルカリ水電解試作機

生産技術センター
〒235-0017 横浜市磯子区新磯子町33
TEL:045-759-1300

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